RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 11, страницы 44–47 (Mi pjtf4777)

Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек

С. Д. Полетаевab, А. И. Любимовc

a Институт систем обработки изображений РАН - филиал ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Самара, Россия, г. Самара
b Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева
c ФГУП «НПО "Государственный институт прикладной оптики"», г. Казань

Аннотация: Теоретически и экспериментально исследовано влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении через маску массивных подложек во фреоне-14. Показано, что для масок с покрытием подложек выше 30% происходит рост реактивной составляющей мощности на расстояниях от центра, близких к радиусу подложки. Установлено отсутствие зависимости удельной реактивной мощности от толщины и типа металла масок. Экспериментально показано, что маски с любым практически значимым коэффициентом покрытия подложки, соединенные с нижним электродом через подложкодержатель, улучшают согласование, снижая коэффициент отражения по мощности.

Ключевые слова: дифракционный микрорельеф, реактивно-ионное травление, импеданс, подложкодержатель, нижний электрод.

Поступила в редакцию: 25.01.2021
Исправленный вариант: 12.03.2021
Принята в печать: 12.03.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.11.51008.18717


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2021, 47:8, 569–572

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024