Получение TiN-покрытий реактивным анодным испарением титана в разряде с самонакаливаемым полым катодом

Предложен способ получения TiN-покрытий путем анодного испарения титана в газовом сильноточном разряде (30 А) с самонакаливаемым полым катодом в среде Ar+N$_{2}$. Оптический спектральный анализ показывает, что в составе газоразрядной плазмы присутствует большое количество активированного титана, а доля ионов металла, поступающих из плазмы на подложку с учетом однозарядности ионов, достигает 70%. При потоке азота 5 cm$^{3}$/min получены TiN-покрытия толщиной 2 $\mu$m с твердостью до 24 GPa. Скорость осаждения на расстоянии 7 cm от источника паров составила $\sim$4 $\mu$m/h.