Аннотация:
Описаны особенности процесса выращивания методом молекулярно-лучевой эпитаксии AlSb/InAs-гетероструктур с высокоподвижным двумерным электронным газом для СВЧ-транзисторов со сверхмалым энергопотреблением. Изложены основные этапы изготовления транзисторов на основе AlSb/InAs-гетероструктур. Представлены и обсуждены стоковые и сток-затворные характеристики транзисторов.