RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2020, том 46, выпуск 23, страницы 29–32 (Mi pjtf4923)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Влияние кривизны поверхности на процессы физического распыления кремния ионами Ar низкой энергии

А. А. Сычева

Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына

Аннотация: Выполнено моделирование методом молекулярной динамики воздействия ионов Ar с энергией 200 eV на модели кремниевых наночастиц различного размера. На основании выполненных расчетов проанализированы механизмы физического распыления и продемонстрированы различия в процессе передачи энергии материалу мишени, которые определяются кривизной ее поверхности.

Ключевые слова: физическое распыление, моделирование, молекулярная динамика, механизм, кривизна поверхности.

Поступила в редакцию: 15.06.2020
Исправленный вариант: 18.08.2020
Принята в печать: 19.08.2020

DOI: 10.21883/PJTF.2020.23.50345.18423


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2020, 46:12, 1184–1187

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024