RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2020, том 46, выпуск 22, страницы 23–26 (Mi pjtf4935)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Особенности вольт-амперной характеристики гетероструктуры $n$-GaP–$p$-(InSb)$_{1-x}$(Sn$_{2}$)$_{x}$

А. С. Саидовa, А. Ю. Лейдерманa, Ш. Н. Усмоновab, У. П. Асатоваc

a Физико-технический институт АН Узбекистана, Ташкент, Узбекистан
b Чирчикский государственный педагогический институт
c Ургенчский государственный университет, Ургенч, Узбекистан

Аннотация: Исследована вольт-амперная характеристика гетероструктур $n$-GaP–$p$-(InSb)$_{1-x}$(Sn$_{2}$)$_{x}$ (0 $\le x\le$ 0.05). Показано, что при малых напряжениях ($V<$ 0.5 V) вольт-амперная характеристика описывается экспоненциальным законом $I=I_{0}\exp(qV/ckT)$, а при больших (от 0.5 до 1.8 V) – степенными законами $I=AV^{m}$ с разными значениями коэффициента $A$ и показателя степени $m$ при различных напряжениях. При более высоких напряжениях (от 2.10 до 2.48 V) наблюдается сублинейный участок, который описывается законом $V=V_{0}\exp (Jd/2kT\mu_{p}N_{t})$.

Ключевые слова: вольт-амперная характеристика, двойная инжекция, твердый раствор, гетероструктура.

Поступила в редакцию: 21.02.2020
Исправленный вариант: 23.07.2020
Принята в печать: 01.08.2020

DOI: 10.21883/PJTF.2020.22.50303.18257


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2020, 46:11, 1124–1127

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024