RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2020, том 46, выпуск 20, страницы 35–37 (Mi pjtf4965)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Синтез и газовая чувствительность тонких пленок оксида хрома

А. В. Алмаев, Б. О. Кушнарев, Е. В. Черников, В. А. Новиков

Национальный исследовательский Томский государственный университет

Аннотация: Методом высокочастотного магнетронного распыления с последующим отжигом при $T$ = 673 K в атмосфере воздуха синтезированы тонкие поликристаллические пленки Cr$_{2}$O$_{3}$. Диаметр зерен в тонкой пленке Cr$_{2}$O$_{3}$ составляет 40–70 nm, ширина запрещенной зоны $\sim$3.3 $\pm$ 0.2 eV. Пленки Cr$_{2}$O$_{3}$ в области температур 303–473 K демонстрируют высокие отклики на NO$_{2}$, Н$_{2}$, пары ацетона и толуола, слабо реагируют на воздействие CH$_{4}$ и СО и характеризуются относительно слабой зависимостью сопротивления от влажности. Предложена качественная модель влияния газов на электрические свойства тонких пленок Cr$_{2}$O$_{3}$.

Ключевые слова: оксид хрома, тонкие пленки, магнетронное распыление, газовые сенсоры.

Поступила в редакцию: 16.04.2020
Исправленный вариант: 06.07.2020
Принята в печать: 20.07.2020

DOI: 10.21883/PJTF.2020.20.50154.18342


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2020, 46:10, 1028–1031

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024