RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2020, том 46, выпуск 15, страницы 36–38 (Mi pjtf5035)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Исследование методом наноиндентирования твердости и модуля Юнга в тонких приповерхностных слоях карбида кремния со стороны Si- и C-граней

А. В. Осиповa, А. С. Гращенкоa, А. Н. Горлякb, А. О. Лебедевbc, В. В. Лучининb, А. В. Марковb, М. Ф. Пановb, С. А. Кукушкинd

a Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ»
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: Представлены результаты исследования методом наноиндентирования твердости и модуля Юнга приповерхностных слоев гексагонального карбида кремния 4$H$-SiC, полученного модифицированным методом Лели, со стороны C-грани (000$\bar1$) и Si-грани (0001) при малых глубинах погружения индентора. Показано, что различия в упругих свойствах и твердости SiC распространяются от поверхности в глубь кристалла примерно на глубину 60 nm. Значение модуля Юнга у C-грани практически совпадает с модулем Юнга объемного образца 4$H$-SiC ($\sim$400 GPa), что примерно в 2.3 раза выше, чем значение модуля Юнга у Si-грани на глубине от 0 до 35 nm ($\sim$170 GPa). Значение коэффициента твердости SiC в среднем примерно в 1.5 раза выше у поверхности C-грани (000$\bar1$), чем у Si-грани (0001), на глубине от 0 до 60 nm. Поскольку при деформации или разрушении кристалла (формировании трещин) образуется новая поверхность, на основании полученных данных сделан вывод, что энергия поверхности С-грани также примерно в 1.5 раза выше, чем энергия поверхности Si-грани.

Ключевые слова: наноиндентирование, карбид кремния, твердость, межфазная энергия.

Поступила в редакцию: 20.04.2020
Исправленный вариант: 29.04.2020
Принята в печать: 29.04.2020

DOI: 10.21883/PJTF.2020.15.49747.18346


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2020, 46:8, 763–766

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024