Порообразование в тонких пленках германия при имплантации ионов Ge$^{+}$

Представлены результаты исследования морфологии наноструктурированных ионной имплантацией пленок германия. Образцы пленок были выращены с использованием метода магнетронного распыления на сверхвысоковакуумной установке и затем облучены ионами Ge$^{+}$ с энергией 40 keV в интервале доз (1.8–8) $\cdot$ 10$^{16}$ ion/cm$^{2}$. Методом сканирующей электронной микроскопии установлено, что с увеличением дозы имплантации в объеме имплантированного германия постепенно формируются вакансионные комплексы диаметром $\sim$50–150 nm, которые при достижении определенной дозы имплантации выходят на поверхность, образуя развитый рельеф облученных пленок.