RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2020, том 46, выпуск 14, страницы 47–50 (Mi pjtf5052)

Характерные закономерности конденсации слоев никеля на поверхности монокристалла вольфрама

О. Л. Голубев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: С помощью методов полевой эмиссионной микроскопии изучались конденсация и адсорбция Ni от долей моноатомного слоя до нескольких сотен слоев на поверхности монокристаллического W-острия в широком диапазоне изменения температур $T$ поверхности. Адсорбция Ni на W в отличие от адсорбции Si на W никакой реконструкции поверхности W не вызывает при любых температурах $T$ подложки, не наблюдается также и явлений объемной диффузии и полевой реконструкции поверхности. При многослойных покрытиях Ni на поверхности W вырастают кристаллиты Ni с собственной структурой и огранкой: при низких $T$ на плотноупакованных гранях, а при высоких $T$ – и на рыхлых гранях W. Наличие сильного внешнего электрического поля позволяет удерживать кристаллиты на поверхности W при температурах, гораздо более высоких по сравнению с температурой их растворения в отсутствие внешнего поля.

Ключевые слова: никель, вольфрам, конденсация, работа выхода.

Поступила в редакцию: 20.03.2020
Исправленный вариант: 20.04.2020
Принята в печать: 20.04.2020

DOI: 10.21883/PJTF.2020.14.49668.18298


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2020, 46:7, 721–724

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024