Особенности воздействия ионов He и Ar низких энергий на нанопористые Si/SiO$_{2}$-материалы

Методом молекулярной динамики выполнено моделирование воздействия ионов He и Ar низких энергий (50–200 eV) на нанопористые материалы на основе Si и SiO$_{2}$. Полученные результаты подтверждают наблюдаемый экспериментально эффект уплотнения приповерхностных слоев материалов с малыми размерами пор и низкой пористостью, который обусловлен инициированным ионами процессом схлопывания пор. Исследованы различия в воздействии на нанопористые материалы ионов He и Ar и влияние их энергии на интенсивность структурных изменений.