RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 23, страницы 19–22 (Mi pjtf5249)

Упругое рассеяние нейтрального фтора на атомах Si, O, C и H в диапазоне относительных кинетических энергий 2–200 eV

А. П. Паловa, J. Zhangb, M. Baklanovb, Sh. Weib

a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына
b Institute of Electronic Information Engineering, North China University of Technology, Beijing, China

Аннотация: Бинарные межатомные потенциалы F–F, F–Si, F–O, F–C и F–H рассчитаны из первых принципов (ab initio) на основе многоконфигурационного метода самосогласованного поля (CAS-SCF) с базисным набором атомных волновых функций aug-pp-AV6Z и использованы для расчета сдвигов фаз и сечений упругого рассеяния атомов в диапазоне относительных кинетических энергий 2–200 eV. Ожидается, что полученные сечения упругого рассеяния будут полезны для описания распыления и травления пористых органосиликатных пленок с этиленовыми мостиками, используемых в современной наноэлектронике.

Ключевые слова: распыление, травление, фтор, органосиликатные стекла.

Поступила в редакцию: 28.06.2019
Исправленный вариант: 28.06.2019
Принята в печать: 26.08.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.23.48713.17955


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:12, 1187–1190

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024