RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 21, страницы 29–33 (Mi pjtf5278)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

InAlAs/InGaAs/InP HEMTs с композитным каналом и улучшенными пробивными характеристиками

Н. А. Малеевab, А. П. Васильевc, А. Г. Кузьменковc, М. А. Бобровa, М. М. Кулагинаa, С. И. Трошковa, С. Н. Малеевa, В. А. Беляковd, Е. В. Петряковаd, Ю. П. Кудряшоваd, Е. Л. Фефеловаd, И. В. Макарцевd, С. А. Блохинa, Ф. А. Ахмедовe, А. В. Егоровe, А. Г. Фефеловd, В. М. Устиновabc

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
c Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, г. Санкт-Петербург
d НПП "Салют", Нижний Новгород, Россия
e НПО "Техномаш", Москва, Россия

Аннотация: Разработаны транзисторы с высокой подвижностью электронов (HEMT) на основе гетероструктур InAlAs/InGaAs/InP, обладающие улучшенными пробивными характеристиками. В приборах используется структура композитного канала InGaAs в сочетании с полностью селективным процессом формирования двойной подзатворной канавки. HEMT с длиной $T$-образного затвора 120 nm, состоящего из четырех пальцев шириной по 30 $\mu$m, демонстрируют максимальную измеренную удельную крутизну вольт-амперной характеристики 810 mS/mm, максимальную плотность тока стока 460 mA/mm и пробивное напряжение затвор-сток 8–10 V. Предельная частота усиления транзисторов по току превышает 115 GHz. Благодаря увеличенному пробивному напряжению и технологии формирования двойной затворной канавки методом селективного травления разработанные транзисторы перспективны для использования в монолитных интегральных схемах усилителей средней мощности миллиметрового диапазона.

Ключевые слова: транзистор, HEMT, InP, пробивное напряжение, миллиметровый диапазон.

Поступила в редакцию: 03.07.2019
Исправленный вариант: 03.07.2019
Принята в печать: 11.07.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.21.48470.17961


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:11, 1092–1096

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024