RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 20, страницы 22–25 (Mi pjtf5290)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Люминесцентные свойства выращенных на InP слоев GaInAsP с градиентом состава по толщине

Г. С. Гагисab, А. С. Власовa, Р. В. Левинa, А. Е. Маричевa, М. П. Щегловa, Т. Б. Поповаa, Б. Я. Берa, Д. Ю. Казанцевa, Д. В. Чистяковc, В. И. Кучинскийab, В. И. Васильевab

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: Исследованы люминесцентные свойства при 77 и 300 K эпитаксиальных слоев Ga$_{1-x}$In$_{x}$As$_{y}$P$_{1-y}$, имеющих градиент содержания элементов пятой группы $\Delta y$ до 0.08 по всей толщине (около 1 $\mu$m). У слоев Ga$_{1-x}$In$_{x}$As$_{y}$P$_{1-y}$ с высокими $\Delta y$ спектры фотолюминесценции были уширены. У слоев GaInAsP низкого кристаллического совершенства фотолюминесценция либо отсутствовала, либо проявляла себя так, как это характерно для переходов с участием примесных уровней.

Ключевые слова: фотолюминесценция, твердые растворы, гетероструктуры, фотоэлектрические преобразователи.

Поступила в редакцию: 28.06.2019
Исправленный вариант: 28.06.2019
Принята в печать: 01.07.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.20.48388.17954


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:10, 1031–1034

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024