RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 17, страницы 39–42 (Mi pjtf5336)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Сквозное концентрационное профилирование гетероструктурных солнечных элементов

Г. Е. Яковлевa, И. А. Няпшаевbc, И. С. Шахрайb, Д. А. Андрониковb, В. И. Зубковa, Е. И. Теруковabc

a Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
b НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике, г. С.-Петербург
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Методом электрохимического вольт-фарадного профилирования исследованы гетероструктурные солнечные элементы на основе монокристаллического кремния. Проанализированы особенности электрохимического вольт-фарадного профилирования современных многослойных гетероструктурных солнечных элементов. Получены профили распределения концентрации основных носителей заряда по всей толщине образцов, в том числе впервые в слоях проводящего оксида индия-олова.

Ключевые слова: электрохимическое вольт-фарадное профилирование, гетероструктурные солнечные элементы, монокристаллический кремний, аморфный кремний.

Поступила в редакцию: 17.05.2019
Исправленный вариант: 17.05.2019
Принята в печать: 31.05.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.17.48223.17880


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:9, 890–893

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024