RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 14, страницы 36–39 (Mi pjtf5379)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Изолирующие слои GaN, совместно легированные железом и углеродом

В. В. Лундинa, А. В. Сахаровa, Е. Е. Заваринa, Д. А. Закгеймa, Е. Ю. Лундинаa, П. Н. Брунковa, А. Ф. Цацульниковb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Исследованы морфология и электрические свойства полуизолирующих эпитаксиальных слоев GaN. Показано, что улучшение изолирующих свойств слоев при повышении уровня легирования углеродом или железом ограничено ухудшением морфологии, при этом характер развития морфологии различен для этих двух примесей. Установлено, что совместное легирование углеродом и железом позволяет сохранить планарность поверхности GaN при существенном улучшении изолирующих свойств.

Ключевые слова: транзистор с высокой подвижностью электронов, полуизолирующий нитрид галлия, ток утечки, совместное легирование.

Поступила в редакцию: 20.02.2019
Исправленный вариант: 11.04.2019
Принята в печать: 11.04.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.14.48022.17738


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:7, 723–726

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024