RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 9, страницы 26–29 (Mi pjtf5449)

Особенности импульсного лазерного отжига пленок ВС$_{3}$ на сапфировой подложке

В. Ю. Фоминскийa, Р. И. Романовa, A. A. Соловьевa, И. С. Васильевскийa, Д. А. Сафоновa, А. А. Ивановa, П. В. Зининb, В. П. Филоненкоc

a Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
b Научно-технологический центр уникального приборостроения РАН
c Институт физики высоких давлений им. Л. Ф. Верещагина РАН

Аннотация: Исследованы морфология, химический состав, микроструктура и электрические свойства тонких пленок ВС$_{3}$, подвергнутых плавлению наносекундным лазерным импульсом. Исходные пленки создавались импульсным лазерным соосаждением В и С на сапфировую подложку при 150 и 350$^\circ$C. Морфологические изменения в пленках зависели от их исходного структурного состояния. Однако “замораживаемая” после облучения структура в обеих пленках соответствовала В-насыщенной графитоподобной фазе, локальный состав которой варьировался вследствие образования включений аморфного карбида бора. До и после облучения пленки проявляли слабо убывающую с ростом температуры от 4.2 до 330 K зависимость поверхностного сопротивления. После лазерного облучения сопротивление пленок уменьшилось в $\sim$2.6 раза.

Поступила в редакцию: 01.02.2019
Исправленный вариант: 01.02.2019
Принята в печать: 13.02.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.09.47709.17722


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:5, 446–449

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024