Фоторефрактивная подстройка коэффициента деления интегрально-оптического направленного $X$-ответвителя на подложке ниобата лития

Исследована возможность подстройки коэффициента деления мощности в интегрально-оптическом направленном ответвителе ($X$-ответвителе) при возбуждении локального фоторефрактивного отклика в материале подложки (LiNbO$_{3}$). Проведено численное моделирование работы $X$-ответвителя, определены его участки, обладающие максимальной чувствительностью к фоторефракции. Получено соответствие расчетных данных и эксперимента. Максимальное изменение коэффициента деления в разветвителе составило величину порядка 1–2%. Фоторефрактивная подстройка коэффициента использована для повышения контраста модулятора Маха–Цендера до уровня 47 dB.