RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2018, том 44, выпуск 23, страницы 111–119 (Mi pjtf5626)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Новый метод подавления периферического поглощения в лазерно-плазменном источнике коротковолнового излучения с Xe газоструйной мишенью

П. С. Буторинa, С. Г. Калмыковb, М. Э. Сасинb

a Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Экспериментально наблюдалось более чем десятикратное увеличение интенсивности EUV-излучения из лазерно-плазменного источника при освещении Xe газоструйной мишени широким лазерным лучом, охватывающим всю ее наиболее плотную часть, по сравнению с интенсивностью излучения при традиционной геометрии, когда луч остро сфокусирован на ось струи. В качестве объяснения предполагается, что в этом случае почти вся плотная часть струи под действием лазерного облучения нагревается, подвергается ионизации и становится прозрачной для квантов исследуемого излучения. Толщина же поглощающей периферической оболочки лазерной искры соответственно уменьшается, что приводит к увеличению интенсивности доходящего до наблюдателя излучения.

Поступила в редакцию: 19.04.2018

DOI: 10.21883/PJTF.2018.23.47018.17340


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2018, 44:12, 1100–1103

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024