Эта публикация цитируется в
2 статьях
Создание пористых слоев германия имплантацией ионами серебра
А. Л. Степановab,
В. В. Воробьевb,
В. И. Нуждинa,
В. Ф. Валеевa,
Ю. Н. Осинb a Казанский физико-технический институт им. Е. К. Завойского, КазНЦ РАН, Казань,
Россия
b Междисциплинарный центр "Аналитическая микроскопия", Казанский федеральный университет
Аннотация:
Предлагается методика формирования слоев пористого германия (
$P$-Ge) с наночастицами Ag, основанная на низкоэнергетической высокодозовой имплантации ионами металла монокристаллического германия (
$c$-Ge). Для ее демонстрации проведена имплантация ионами Ag
$^{+}$ полированной пластины
$c$-Ge с энергией 30 keV при дозе 1.5
$\cdot$ 10
$^{17}$ ion/cm
$^{2}$ и плотности тока в ионном пучке 5
$\mu$A/cm
$^{2}$. Методами высокоразрешающей сканирующей электронной и атомно-силовой микроскопии, а также рентгеноспектрального микрозондового анализа и дифракции отраженных электронов показано, что в результате проведенной имплантации на поверхности
$c$-Ge формируется пористый аморфный слой
$P$-Ge губчатой структуры, состоящей из сетки пересекающихся нанонитей, средний диаметр которых составляет
$\sim$10–20 nm. На концах нитей прослеживается образование наночастиц Ag. Также установлено, что формирование пор при проведении имплантации ионами Ag
$^{+}$ сопровождается эффективным распылением поверхности Ge.
Поступила в редакцию: 03.04.2017
DOI:
10.21883/PJTF.2018.08.45971.16808