RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2018, том 44, выпуск 6, страницы 77–84 (Mi pjtf5859)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Увеличение насыщенной скорости дрейфа электронов в pHEMT-гетероструктурах с донорно-акцепторным легированием

Д. Ю. Протасовab, Д. В. Гуляевa, А. К. Бакаровa, А. И. Тороповa, Е. В. Ерофеевc, К. С. Журавлевad

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный технический университет
c Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники
d Новосибирский государственный университет

Аннотация: Приводятся измеренные импульсным методом полевые зависимости дрейфовой скорости электронов в обычных гетероструктурах pHEMT и гетероэпитаксиальных структурах (ГЭС) с донорно-акцепторным легированием (DA-pHEMT), в которых глубина квантовой ямы (КЯ) увеличена на 0.8-0.9 eV при помощи акцепторных слоев. Показано, что в ГЭС DA-pHEMT. скорость насыщенного дрейфа в 1.2–1.3 раза выше, чем в обычных ГЭС pHEMT. В спектрах электролюминесценции ГЭС DA-pHEMT отсутствуют полосы, связанные с рекомбинацией в широкозонных слоях – барьерах КЯ. Интенсивность электролюминесценции КЯ в таких ГЭС не насыщается при увеличении напряженности электрического поля. Это свидетельствует о подавлении переноса в реальном пространстве горячих электронов из КЯ в окружающие еe барьерные слои, с чем и связано увеличение насыщенной скорости дрейфа.

Поступила в редакцию: 26.10.2017

DOI: 10.21883/PJTF.2018.06.45770.17098


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2018, 44:3, 260–262

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024