RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2018, том 44, выпуск 2, страницы 11–17 (Mi pjtf5902)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Влияние режима отжига на свойства терагерцевой фотопроводящей антенны на основе LT-GaAs

С. А. Номоевa, И. С. Васильевскийa, А. Н. Виниченкоa, К. И. Козловскийa, А. А. Чистяковa, Е. Д. Мишинаb, Д. И. Хусяиновb, А. М. Буряковb

a Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
b МИРЭА — Российский технологический университет, г. Москва

Аннотация: Методом молекулярно-лучевой эпитаксии выращены пленки LT-GaAs (low temperature gallium arsenide – арсенид галлия, выращенный методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низкой температуре роста) на подложках GaAs(100) при температуре 230$^\circ$C и проведен постростовый отжиг. На поверхности пленок изготовлены фотопроводящие антенны с флажковой геометрией. Получены мощностные зависимости терагерцевого отклика при различных значениях напряжения смещения и температуры постростового отжига. Методом терагерцевой спектроскопии исследованы спектральные характеристики изготовленных фотопроводящих антенн. Определен диапазон оптимальной температуры постростового отжига (670–720$^\circ$C) пленок LT-GaAs.

Поступила в редакцию: 03.07.2017

DOI: 10.21883/PJTF.2018.02.45459.16947


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2018, 44:1, 44–46

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024