RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2017, том 43, выпуск 3, страницы 29–38 (Mi pjtf6001)

Эта публикация цитируется в 25 статьях

Особенности токопрохождения в гетеропереходных солнечных элементах на основе $\alpha$-Si : H/Si

А. В. Саченкоa, В. П. Костылевa, И. О. Соколовскийa, А. В. Бобыльb, В. Н. Вербицкийb, Е. И. Теруковbc, М. З. Шварцb

a Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, г. Киев
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике, г. С.-Петербург

Аннотация: Рассмотрена специфика формирования темновых ВАХ I(V) гетеропереходных солнечных элементов на основе $\alpha$-Si : H/Si с учетом соотношения между уровнем легирования кремния $N_{d}$ и величиной избыточной концентрации электронно-дырочных пар $\Delta n$. Показано, что при $\Delta n\ge N_{d}$ ВАХ принципиально отличается от ВАХ классического диода Шокли из-за влияния тыльной поверхности (вследствие дополнительного падения приложенного напряжения). Результаты анализа применены для описания экспериментальных ВАХ, наблюдаемых в работах по исследованию гетеропереходных солнечных элементов на основе $\alpha$-Si : H/Si. Из сравнения экспериментальных и расчетных зависимостей I(V) получены численные значения факторов идеальности их темновых ВАХ.

Поступила в редакцию: 08.09.2016

DOI: 10.21883/PJTF.2017.03.44224.16473


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2017, 43:2, 152–155

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024