Полировка поверхности сверхтвердых материалов пучками газовых кластерных ионов

Проведено исследование влияния облучения газовыми кластерными ионами на топографию поверхности карбида кремния и алмаза. С помощью атомно-силовой микроскопии показано, что воздействие на эти материалы кластерных ионов с энергией 10 keV и дозами более 10$^{16}$ cm$^{-2}$ приводит к сглаживанию рельефа поверхности. Приведены оценки скорости травления и эффективности сглаживания рельефа в зависимости от толщины удаленного слоя вещества. С помощью спектроскопии комбинационного рассеяния света продемонстрировано отсутствие дефектов, вносимых облучением кластерными ионами в объем мишени.