RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2017, том 43, выпуск 1, страницы 5–13 (Mi pjtf6025)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Усиление излучения в легированных AlGaN-структурах при оптической накачке

П. А. Боханa, К. С. Журавлёвb, Дм. Э. Закревскийa, Т. В. Малинa, И. В. Осинныхa, Н. В. Фатеевa

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет

Аннотация: При оптической накачке импульсным лазерным излучением с $\lambda$ = 266 nm твердых растворов Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N/AlN с $x$ = 0.5 и 0.74, синтезированных методом молекулярно-лучевой эпитаксии, исследованы спектральные характеристики спонтанной и стимулированной люминесценции. Получены широкополосные спектры излучения с шириной $\sim$ 260 THz для Al$_{0.5}$Ga$_{0.5}$N и $\sim$360 THz для Al$_{0.74}$Ga$_{0.26}$N. Измеренные коэффициенты усиления на $\lambda\approx$ 528 nm для Al$_{0.5}$Ga$_{0.5}$N равны $g\approx$ 70 cm$^{-1}$, а для Al$_{0.74}$Ga$_{0.26}$N на $\lambda\approx$ 468 nm $g\approx$ 20 cm$^{-1}$.

Поступила в редакцию: 17.07.2016

DOI: 10.21883/PJTF.2017.01.44083.16442


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2017, 43:1, 46–49

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024