RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2017, том 43, выпуск 14, страницы 80–87 (Mi pjtf6176)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Выход электронно-стимулированной десорбции и глубина проникновения возбуждающих электронов

Ю. А. Кузнецов, М. Н. Лапушкин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Исследованы концентрационные зависимости электронно-стимулированной десорбции (ЭСД) атомов Cs и Na при адсорбции на неметаллических покрытиях, выращенных на W-подложке. Обнаружено, что процессы ЭСД происходят в интерфейсе адсорбированный слой-неметаллическая подложка. Показано, что спад в концентрационной зависимости выхода ЭСД, наблюдающийся после достижения монослойного покрытия, связан с уменьшением количества возбуждающих ЭСД электронов, достигающих интерфейса.

Поступила в редакцию: 19.03.2017

DOI: 10.21883/PJTF.2017.14.44827.16777


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2017, 43:7, 674–677

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024