Н. С. Будников, В. В. Дуденкова, В. Е. Котомина, О. А. Морозов, В. В. Семенов, “Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности”, Письма в ЖТФ, 2017, том 43, выпуск 11,страницы 81

Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности

Н. С. Будников^a, В. В. Дуденкова^a, В. Е. Котомина^a, О. А. Морозов^a, В. В. Семенов^b

^a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
^b Институт металлоорганической химии им. Г. А. Разуваева РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Для задачи оценки характерных размеров и рельефа микродефектов поверхности образцов сложной формы представлен голографический метод измерений прозрачных реплик – обратной маски к исследуемой поверхности. Метод измерений основан на цифровой регистрации интерферограмм полимерной реплики в модифицированной внеосевой голографической схеме Лейта–Упатниекса и расчете разности набега фазы по серии восстановленных цифровых голограмм.

Поступила в редакцию: 20.01.2017

DOI: 10.21883/PJTF.2017.11.44700.16710