RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2016, том 42, выпуск 23, страницы 51–57 (Mi pjtf6249)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Фотоэмиссионные исследования вицинальной поверхности SiC(100) 4$^\circ$ и интерфейса Cs/SiC(100) 4$^\circ$

Г. В. Бенеманскаяab, П. А. Дементьевab, С. А. Кукушкинbcd, М. Н. Лапушкинabc, А. В. Осиповbc, С. Н. Тимошневbe

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
d Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
e Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Впервые проведены фотоэмиссионные исследования электронной структуры вицинальной поверхности SiC(100) 4$^\circ$, выращенной новым методом замещения атомов подложки, и интерфейса Cs/SiC(100) 4$^\circ$. Исследована модификация спектров валентной зоны и остовных уровней C 1$s$, Si 2$p$ в процессе формирования интерфейса Cs/SiC(100) 4$^\circ$. Обнаружено подавление поверхностного состояния SiC с энергией связи 2.8 eV и образование индуцированного цезием состояния с энергией связи 10.5 eV. Впервые обнаружена и исследована модификация сложной структуры компонентов в спектре остовного уровня C 1$s$. Найдено, что адсорбция Cs на вицинальной поверхности SiC(100) 4$^\circ$ приводит к интеркаляции островков графена на SiC(100) 4$^\circ$ атомами Cs.

Поступила в редакцию: 27.06.2016


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2016, 42:12, 1145–1148

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024