RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2016, том 42, выпуск 15, страницы 36–42 (Mi pjtf6341)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Кристаллизация пленок аморфного гидрогенизированного кремния ($a$-Si : H) при облучении фемтосекундными лазерными импульсами

В. П. Беликa, О. С. Васютинскийa, А. В. Кукинa, М. А. Петровab, Р. С. Поповab, Е. И. Теруковac

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике, г. С.-Петербург

Аннотация: Исследована кристаллизация тонких пленок аморфного гидрогенизированного кремния под действием импульсов фемтосекундного лазера. Обнаружено, что наблюдаемый эффект кристаллизации носит ярко выраженный пороговый характер и зависит от длины волны лазерного излучения. Показано, что наилучшие результаты кристаллизации достигаются при использовании длин волн лазерного излучения в диапазоне 740–760 nm.

Поступила в редакцию: 23.03.2016


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2016, 42:8, 788–791

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024