Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений

В результате исследований особенностей фокусировки электронных пучков, генерируемых форвакуумным плазменным источником в области давлений 10–30 Pа, показана принципиальная возможность получения пучков субмиллиметровых размеров. При диаметре электронного пучка 0.6 mm плотность мощности пучка составила 10$^{5}$ W/cm$^{2}$. Достигнутые параметры пучка открывают возможность прецизионной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов, в частности высокотемпературных алюмооксидных керамик.