RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2016, том 42, выпуск 10, страницы 78–84 (Mi pjtf6419)

Эта публикация цитируется в 18 статьях

Стимулированное светом резистивное переключение в структурах металл–диэлектрик–полупроводник на основе кремния

С. В. Тиховa, О. Н. Горшковab, М. Н. Коряжкинаa, И. Н. Антоновab, А. П. Касаткинa

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород

Аннотация: Стимулированное светом резистивное переключение изучено в МДП-структурах на основе Si, покрытого туннельно-тонким слоем SiO$_{2}$, на который осаждался нанометровый слой Sb. В качестве диэлектрика в этих структурах использован диоксид циркония, стабилизированный оксидом иттрия.

Поступила в редакцию: 03.09.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2016, 42:5, 536–538

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024