RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2016, том 42, выпуск 7, страницы 65–72 (Mi pjtf6460)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие импульсного вакуумно-дугового разряда на поверхность элементов разрядного устройства

В. И. Асюнин, С. А. Бушин, С. Г. Давыдов, А. Н. Долгов, А. В. Пилюшенко, А. А. Пшеничный, В. О. Ревазов, Р. Х. Якубов

Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н. Л. Духова, г. Москва

Аннотация: Методами визуализации структуры поверхности и рентгенофлуоресцентного элементного микроанализа изучены закономерности эрозии и переноса вещества элементов разрядного устройства. Обнаружено влияние микрорельефа и окисной пленки, присутствующей на поверхности материала катода, на развитие дугового разряда в коммутаторе.

Поступила в редакцию: 30.11.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2016, 42:4, 368–371

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024