RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1985, том 11, выпуск 18, страницы 1110–1113 (Mi pjtf994)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Кристаллизация и эффект отжига макродефектов в процессе высокоинтенсивной ионной имплантации полупроводниковых кристаллов

В. С. Андреев, С. Б. Ефимов, Ф. Ф. Комаров, А. П. Новиков, Т. Т. Самойлюк, В. С. Соловьев, С. Ю. Ширяев

Научно-исследовательский институт прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко при Белорусском государственном университете им. В. И. Ленина

Поступила в редакцию: 17.06.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024