RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Прикладная механика и техническая физика // Архив

Прикл. мех. техн. физ., 2023, том 64, выпуск 3, страницы 131–136 (Mi pmtf1312)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Структурирование поверхности кремния плазмой тлеющего разряда

А. В. Петроваab, А. Л. Богословцеваab, С. В. Старинскийab, А. И. Сафоновa

a Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
b Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Новосибирск, Россия

Аннотация: Показана возможность изменения морфологии поверхности кремния при определенных параметрах тлеющего разряда. Установлено, что при обработке плазмой тлеющего разряда основным процессом, влияющим на морфологию поверхности, является окисление.
В результате обработки в исследуемом диапазоне параметров наблюдаются различные стадии процесса окисления поверхности: образование равномерного оксидного слоя, формирование нано- и микроструктур оксида кремния. Показано, что указанные процессы приводят к модификации поверхности, которая приобретает устойчивые гидрофильные и супергидрофильные свойства.

Ключевые слова: тлеющий разряд, обработка кремния, окисление, смачиваемость, гидрофильность.

УДК: 533.17: 541.64

Поступила в редакцию: 22.07.2022
Исправленный вариант: 07.11.2022
Принята в печать: 28.11.2022

DOI: 10.15372/PMTF202215179


 Англоязычная версия: Journal of Applied Mechanics and Technical Physics, 2023, 64:3, 472–477

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024