RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Прикладная механика и техническая физика // Архив

Прикл. мех. техн. физ., 2000, том 41, выпуск 3, страницы 133–138 (Mi pmtf2936)

Влияние высоты слоя на тепловую структуру расплава при выращивании монокристаллов методом Стокбаргера с использованием ACRT

В. Э. Дистанов, А. Г. Кирдяшкин

Институт минералогии и петрографии СО РАН, 630090 Новосибирск

Аннотация: Изучено влияние высоты слоя расплава на его тепловую структуру. Дана оценка максимальных скоростей восходящих и нисходящих потоков при выращивании кристаллов методом Стокбаргера с использованием ACRT в ампулах диаметром 100 мм при числах Тейлора Ta $>$ 10$^8$. Обнаружено резкое увеличение амплитуды пульсаций температуры при уменьшении высоты слоя, вызванное модулированным вращением ампулы. С уменьшением высоты слоя расплава скорость восходящих и нисходящих потоков на оси цилиндрической ампулы уменьшается.

УДК: 532.5+536.25+548.5

Поступила в редакцию: 24.05.1999


 Англоязычная версия: Journal of Applied Mechanics and Technical Physics, 2000, 41:3, 498–503

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024