Аннотация:
Обсуждаются физические основы поверхностно-плазменного метода генерации интенсивных ($>$ 0,1 А) пучков отрицательных ионов изотопов водорода, созданного и исследованного в Институте ядерной физики СО АН СССР. Описываются конструкции и характеристики различных поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов и атомов, разработанных в Институте в последние годы для ускорителей заряженных частиц и установок УТС.