RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1976, том 3, номер 3, страницы 576–581 (Mi qe11002)

Эта публикация цитируется в 29 статьях

Инверсная населенность уровней Al XI в лазерной плазме

Э. Я. Кононов, К. Н. Кошелев, Ю. А. Левыкин, Ю. В. Сидельников, C. C. Чурилов

Институт спектроскопии АН СССР, Москва

Аннотация: Экспериментально установлено наличие инверсии на уровнях с n = 4,5 по отношению к уровню n = 3 иона Al XI в рекомбинирующей лазерной плазме на расстояниях ~50–500 мкм от поверхности мишени. Относительная населенность уровней определялась по интенсивностям линий серии переходов 2p–nd Al XI c учетом их самопоглощения. Отношение населенностей уровней 4d и 3d составляет в плотной зоне плазмы с Nl ~1020 см–3 величину ~1,8, что соответствует инверсии ΔN~1015 см–3. Коэффициент усиления в этой области плазмы для линии 3d–4f Al XI (λ ≈ 154 Å) согласно оценкам равен 0,1 см–1. Определен ход рекомбинации He-подобных ионов Al XI и изменение электронной температуры в зависимости от расстояния до поверхности мишени.

УДК: 621.375.9:535

PACS: 52.50.Jm, 52.25.Ps

Поступила в редакцию: 01.09.1975


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1976, 6:3, 308–311


© МИАН, 2024