RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1998, том 25, номер 1, страницы 36–40 (Mi qe1132)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Эмиссионная спектроскопия углеродной плазмы при лазерной абляции. 2. Абляция графита СО2-лазером, а также (совместно) XeCl- и CO2-лазерами

А. В. Демьяненко, В. С. Летохов, А. А. Пурецкиий, Е. А. Рябов

Институт спектроскопии РАН, г. Троицк, Москва

Аннотация: Методом эмиссионной спектроскопии с временным разрешением исследовано свечение факела углеродной плазмы, возникающей при абляции графита в вакууме излучением импульсного СО2-лазера. Обнаружено, что в процессе свечения плазмы ее спектр существенно изменяется. В нем по очереди появляются различные люминесцирующие компоненты — ионы С+, радикалы С2 и микрочастицы. Спектр плазмы при этом существенно отличается от спектра плазмы, полученной при абляции XeCl-лазером, что связано главным образом с различием в длинах волн лазерного излучения. Обнаружено, что дополнительный нагрев СО2-лазером плазмы, возникающей при абляции графита излучением XeCl-лазера, при определенных условиях приводит к резким изменениям в ее спектре свечения. Эти изменения указывают на более высокую степень атомизации частиц и более высокую долю ионов в такой плазме по сравнению со случаем абляции одним лазером.

PACS: 52.70.Kz, 52.50.Jm, 52.25.Kn

Поступила в редакцию: 22.07.1997


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1998, 28:1, 33–37

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024