RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1975, том 2, номер 6, страницы 1269–1277 (Mi qe11324)

Исследование механизма безызлучательной релаксации метастабильного состояния Nd3+ 4F3/2 в силикатном стекле

Т. Т. Басиев, Т. Г. Мамедов, И. А. Щербаков

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР

Аннотация: Исследована кинетика распада метастабильного состояния Nd3+ 4F3/2 в силикатном стекле в широком диапазоне изменения концентрации активатора и в динамическом диапазоне изменения интенсивности свечения 103. Показано, что ее вид практически не изменяется при сканировании по контуру линии люминесценции и при изменении длины волны возбуждения, которое осуществлялось различными лазерами, в том числе и лазером с плавно меняющейся частотой генерации. Рассмотрена связь параметров мультипольных взаимодействий, вызывающих миграцию энергии и гибель электронного возбуждения, с кинетикой распада. Экспериментально получен вид временной зависимости безызлучательной релаксации метастабильного состояния. Показано, что за безызлучательную релаксацию ответственно диполь-дипольное взаимодействие частиц. Сделан вывод о неравномерном вхождении ионов активатора в матрицу и об образовании областей с их повышенной концентрацией даже при очень малых концентрациях Nd3+.

УДК: 535.373.2

PACS: 78.60.

Поступила в редакцию: 09.12.1974


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1975, 5:6, 687–692


© МИАН, 2024