Квантовая электроника,
1978, том 5, номер 12,страницы 2602–2610(Mi qe11388)
Контурно-проекционный метод лазерной обработки материалов
В. П. Вейко
Ленинградский институт точной механики и оптики
Аннотация:
Проведен анализ оптической схемы контурно-проекционного метода лазерной обработки. Рассмотрены варианты схемы с проецирующей, фокусирующей и телескопической осветительными системами и указаны их достоинства и недостатки. Рассмотрены основные типы искажений рисунка на пленках при контурно-проекционной обработке. Показано, что по сравнению с проекционной схемой обработки уменьшается роль термических искажений рисунка и растет роль гидродинамических искажений, которые обусловливают неровность края и структуру пограничной зоны рисунка. Приведено краткое описание лазерной технологической установки «Кварц-2» для прецизионной обработки тонких пленок, построенной по контурно-проекционной схеме.
Даны некоторые примеры обработки тонких пленок на этой установке.