RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1978, том 5, номер 12, страницы 2602–2610 (Mi qe11388)

Контурно-проекционный метод лазерной обработки материалов

В. П. Вейко

Ленинградский институт точной механики и оптики

Аннотация: Проведен анализ оптической схемы контурно-проекционного метода лазерной обработки. Рассмотрены варианты схемы с проецирующей, фокусирующей и телескопической осветительными системами и указаны их достоинства и недостатки. Рассмотрены основные типы искажений рисунка на пленках при контурно-проекционной обработке. Показано, что по сравнению с проекционной схемой обработки уменьшается роль термических искажений рисунка и растет роль гидродинамических искажений, которые обусловливают неровность края и структуру пограничной зоны рисунка. Приведено краткое описание лазерной технологической установки «Кварц-2» для прецизионной обработки тонких пленок, построенной по контурно-проекционной схеме. Даны некоторые примеры обработки тонких пленок на этой установке.

УДК: 621.791.72:621.373.826

PACS: 81.90.+c, 06.60.Vz, 42.60.Kg

Поступила в редакцию: 23.11.1977


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1978, 8:12, 1463–1468


© МИАН, 2024