RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1976, том 3, номер 5, страницы 1136–1138 (Mi qe11411)

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Краткие сообщения

Механизм разрушения прозрачных полимерных материалов при многократном воздействии импульсного лазерного излучения

А. В. Бутенин, Б. Я. Коган


Аннотация: Показано, что очистка полиметилметакрилата (ПММА) от поглощающих микровключений приводит к значительному увеличению его устойчивости к многократному воздействию импульсного лазерного излучения. Введение в ПММА микрочастиц сажи размером 25 нм способствует его разрушению под действием излучения. Высказана гипотеза об определяющей роли в разрушении полимеров при многократном воздействии излучения процессов сажеобразования в результате локального термолиза полимера в окрестности поглощающих микровключений. Результаты испытаний сополимеров метилметакрилата и стирола находятся в согласии с этой гипотезой.

УДК: 678.744.335:621.375.826

PACS: 61.40.Km, 81.50.Qx

Поступила в редакцию: 08.08.1975
Исправленный вариант: 20.10.1975


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1976, 6:5, 611–613


© МИАН, 2024