RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1988, том 15, номер 3, страницы 526–530 (Mi qe11513)

Взаимодействие лазерного излучения с веществом

Влияние микропрофиля облучаемой поверхности на возникновение плазменного факела

Б. И. Громов, А. А. Калин, М. С. Кузнецов, В. П. Остафичук

Московский инженерно-физический институт

Аннотация: Исследовалось влияние механической обработки поверхности металла на процесс плазмообразования при облучении мишеней из сплава Д16Т монохроматическими световыми импульсами с длиной волны 1,06 мкм, длительностью 50 нс и энергией 4 Дж. С помощью поперечного зондирования области взаимодействия лазерным излучением с одновременной пьезорегистрацией возбуждаемой в мишени волны напряжений определялся момент начала пробоя. Предложена модель, объясняющая зависимость плотности энергии, достигшей поверхности образца до появления плазмы, от неровностей поверхности, согласующаяся с экспериментальными результатами.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 42.62.Cf, 52.50.Jm, 81.65.-b

Поступила в редакцию: 21.01.1987


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1988, 18:3, 333–336

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024