Фотоинициированная излучением XeCl-лазера полимеризация акриловых олигомеров

Исследована фотоинициированная импульсно-периодическим излучением ХеСl-лазера (λ = 308 нм) полимеризация пленок ОКМ-2 и ТГМ-3. Получены зависимости массы и толщины отвержденных слоев, а также степени конверсии двойных связей от дозы облучения при полимеризации как на воздухе, так и в инертном газе. Исследовано влияние плотности энергии лазерных импульсов на выход полимера и изменение спектров пропускания облученных пленок. Обнаружено, что затраты энергии на отверждение пленок существенно зависят от плотности энергии лазерных импульсов. Оценены кинетические параметры полимеризации.