RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1974, том 1, номер 10, страницы 2300–2302 (Mi qe11755)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Краткие сообщения

О резонансном фотовоздействии лазерным излучением на процессы полимеризации

И. Н.  Кальвина, В. Ф. Москаленко, Е. П. Остапченко, Л. Л. Павловский, Т. В. Проценко, В. И. Рычков


Аннотация: Экспериментально установлена возможность резонансной фотоактивизации процессов химических превращений в сложных конденсированных полимерных системах при их облучении на определенной длине волны. Показано, что при воздействии слабого монохроматического излучения на предварительно «разогретую» пленку эмали МЛ-12 степень полимеризации может практически достигать 100% вместо обычных 85 … 90%, заметно возрастает также скорость сушки покрытия, может быть уменьшена температура сушки. Полученные результаты позволяют сделать вывод о возможности практического применения фотоактивизации в технологии сушки изделий микроэлектроники.

УДК: 535.14:621.001

PACS: 61.80.Ba, 61.82.Pv, 82.35.-x

Поступила в редакцию: 16.04.1974
Исправленный вариант: 17.06.1974


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1975, 4:10, 1285–1286


© МИАН, 2024