RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1988, том 15, номер 11, страницы 2257–2261 (Mi qe12629)

Международная конференция по полупроводниковым инжекционным лазерам СЕЛКО-87

Металлоорганическая газофазная эпитаксия (GaAl)As для лазерных диодов на 0,85 мкм

К. Якобсab, Ф. Буггеab, Л. Бутцкеab, Л. Леманнab, Р. Шимкоab

a Завод телевизионной аппаратуры, Берлин
b Университет им. А. Гумбольдта, Берлин

Аннотация: Металлоорганическая газофазная эпитаксия использована для выращивания полосковых гетеролазерных диодов, раньше изготовлявшихся методом жидкофазной эпитаксии. Изучены основные соотношения между экспериментальными параметрами (входные парциальные давления, температуры) и свойствами материалов (толщины, составы твердых растворов, концентрации носителей). Сделан вывод о полном согласии с механизмом роста, управляемом газофазной диффузией. Приведены результаты, получаемые регулярно при выращивании GaAs. Гетеролазеры, изготовленные методом МОГФЭ, успешно конкурируют с лазерами, изготовлявшимися до сих пор методом ЖФЭ, включая аспекты деградации и надежности.

УДК: 621.373.826.038.825.4

PACS: 42.55.Px, 42.86.+b, 81.15.Kk, 81.15.Gh


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1988, 18:11, 1412–1415

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024