RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1998, том 25, номер 6, страницы 550–554 (Mi qe1266)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Пороги плазмообразования при облучении твeрдых мишеней лазерными импульсами
длительностью ~10–12 и ~10–10 с (длина волны λ = 1.06 мкм)


Б. Т. Федюшинa, А. Ф. Головинb, А. П. Матафоновc, В. С. Беляевc

a Научно-производственное объединение "Астрофизика", г. Москва
b Институт геохимии и аналитической химии им. В. И. Вернадского РАН, г. Москва
c Центральный научно-исследовательский институт машиностроения, г. Королев Московской обл.

Аннотация: Измерены пороги возникновения плазмы на металлических (Al, Cu) и диэлектрических (стекло К8, кварц КВ) мишенях при облучении их лазерными импульсами (λ = 1.06 мкм, τ ~10– 12 и ~10–10 с). Показано, что наименьшая поверхностная плотность энергии ε*, при которой возникает плазма, уменьшается на два порядка по сравнению со случаем воздействия излучения с λ = 10.6 мкм и τ ~10–6 с. Обработка результатов измерений показала, что в диапазоне длительностей τ ~10–12 — 10–10 с справедливой остаeтся так называемая «короткая» тепловая модель инициирования плазмы.

PACS: 52.50.Jm, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 08.12.1997


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1998, 28:6, 535–538

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024