Радиационная стойкость оптических материалов для окон эксимерных лазеров УФ и ВУФ диапазонов

Экспериментально изучено поведение современных кварцевых стекол и флюорита при длительном воздействии импульсов электронного пучка с энергией электронов 280 кэВ и общим флюенсом до ~30 кДж/см². У всех исследованных материалов наводимое поглощение с ростом флюенса выходило на насыщение. У высокочистых образцов CaF₂ предельные изменения пропускания при таком облучении не превышали 5% – 10% в области 120 – 1000 нм. Квазистационарное поглощение в области ~180 – 300 нм у стекла марки КС-4В было примерно в 4 раза меньше, чем у стекла КУ-1, и в 2 раза меньше, чем у стекол Corning 7980.