RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2007, том 37, номер 6, страницы 575–579 (Mi qe13485)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Волоконная и интегральная оптика

Дефекты фосфоросиликатного стекла, экспонированного излучением на длине волны 193 нм

Ю. В. Ларионов, В. О. Соколов, В. Г. Плотниченко

Научный центр волоконной оптики РАН, г. Москва

Аннотация: Проведены измерения наведенного поглощения (НП) в спектральных диапазонах 140 – 850 и 1000 – 1700 нм в ненасыщенном водородом фосфоросиликатном стекле (ФСС) до и после его экспонирования на длине волны 193 нм. Показано, что в диапазоне 140 – 300 нм полосы НП не совпадают с полосами, зафиксированными ранее при экспонировании ФСС рентгеновским излучением. Сделано предположение, что возникновение фоторефрактивного эффекта в ФСС связано не с дефектами, обуславливающими обнаруженные полосы НП, а с индуцированными изменениями сетки стекла.

PACS: 42.81.Cn, 79.20.Ds, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 22.10.2006


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2007, 37:6, 575–579

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024