Ю. В. Ларионов, В. О. Соколов, В. Г. Плотниченко, “Перестройка сетки фосфоросиликатного стекла под действием излучения на длине волны 193 нм”, Квантовая электроника, 38:10 (2008), 945

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Перестройка сетки фосфоросиликатного стекла под действием излучения на длине волны 193 нм

Ю. В. Ларионов^a, В. О. Соколов^b, В. Г. Плотниченко^b

^a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
^b Научный центр волоконной оптики РАН, г. Москва

Аннотация: Проведены измерения спектров ИК поглощения и комбинационного рассеяния в фосфоросиликатном стекле (ФСС) в ходе его экспонирования излучением на длине волны 193 нм. Полученные данные свидетельствуют о сложной динамике перестройки сетки стекла вокруг атомов фосфора и сетки стекла в целом. Модель изменения сетки ФСС с использованием представлений теории перколяции жесткости позволяет объяснить характер экспериментальных зависимостей.

PACS: 42.70.Ce, 42.70.Nq, 42.81.-i

Поступила в редакцию: 27.11.2007
Исправленный вариант: 19.03.2008