Интерференционные исследования плазмы трехэлектродного XeCl-лазера

Экспериментально исследованы оптические неоднородности в активной среде трехэлектродного XeCl-лазера с двойным разрядом. Обнаружено влияние предымпульса тока, возникающего на стадии формирования разряда, на профиль распределения электронной плотности плазмы. Изучена динамика изменения распределения электронной плотности в процессе накачки. Зарегистрированы мелкомасштабные оптические неоднородности, которые возникают из-за развития микронеустойчивостей разряда. Определены плотность тока и длительность импульса накачки, при которых реализуется устойчивый разряд.