RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2010, том 40, номер 1, страницы 40–44 (Mi qe14205)

Эта публикация цитируется в 24 статьях

Активные среды

Влияние фотоупругого эффекта на тепловую линзу в кристалле YLF

В. В. Зеленогорский, Е. А. Хазанов

Институт прикладной физики РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Тепловая линза в кристалле YLF рассчитана с учетом анизотропий теплопроводности, упругости, линейного расширения и показателя преломления. Доказано, что наблюдаемый в экспериментах сильный астигматизм тепловой линзы в YLF может быть объяснен только с учетом фотоупругого эффекта. Показано, что в кристалле YLF, вырезанном так, чтобы оптическая ось лежала в плоскости торца стержня, вклад в тепловую линзу для обыкновенной волны дают лишь три коэффициента фотоупругости, а в линзу для необыкновенной волны — только два. С использованием этих пяти коэффициентов фотоупругости как подгоночных параметров количественно интерпретируются все известные экспериментальные данные.

PACS: 42.55.Rz, 42.70.Hj, 78.20.Hp

Поступила в редакцию: 10.08.2009


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2010, 40:1, 40–44

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024